I laboratori del Gruppo Plasma a Bassa Temperatura di Bari sono ospitati dall'Università di Bari.
Un'ampia serie di misurazioni delle caratteristiche chimiche e fisiche del plasma è consentita da una varietà di tecniche diagnostiche, che vanno dalla diagnostica elettrica, come le sonde Langmuir, all'analisi delle emissioni ottiche e infrarosse, a tecniche laser come Thomson Scattering, Coherent Raman Scattering, Laser Induced Fluoresce (LIF), assorbimento in cavità, spettroscopia indotta da laser (LIBS).
La Microwave Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (MWPECVD) è una tecnica versatile nella produzione di materiali innovativi per industrie high-tech come microelettronica, optoelettronica, fotovoltaico, biomateriali, imballaggi alimentari, automobili, sensori.
Nello specifico, i film non drogati di diamante nanocristallino (NCD) e policristallino (PCD) vengono depositati mediante MWPECVD, partendo da miscele gassose di CH4 altamente diluite (meno del 5%) rispettivamente in Ar e H2.
Sono disponibili Dielectric Barrier Discharger per applicazioni agroalimentari. Le principali attività riguardano la decontaminazione e il pretrattamento di sementi, il trattamento post-raccolta per il miglioramento della shelf-life e il mezzo attivato al plasma (in particolare l'acqua attivata dal plasma) per la decontaminazione e gli impianti di irrigazione.
Un cluster HPC è disponibile presso il nostro laboratorio per supportare la simulazione e la modellazione del plasma. Il sistema dispone di 11 server multiprocessore/multicore ed è installato presso la nostra sede.